【ZiDongHua 之“半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈”收錄關(guān)鍵詞： 璞璘科技 半導(dǎo)體 納米壓印技術(shù)】
　　
　　璞璘科技交付中國首臺半導(dǎo)體級步進(jìn)納米壓印光刻系統(tǒng)!——致敬納米壓印技術(shù)發(fā)明30周年
　　
　　2025年8月1日，我司自主設(shè)計(jì)研發(fā)的首臺PL-SR系列噴墨步進(jìn)式納米壓印設(shè)備順利通過驗(yàn)收并交付至國內(nèi)特色工藝客戶。此次設(shè)備交付是我司業(yè)務(wù)拓展和市場滲透的新里程碑，標(biāo)志著我司在高端半導(dǎo)體裝備制造領(lǐng)域邁出堅(jiān)實(shí)的一步。
 
　　
　　NEWS               
　　
　　 PL-SR系列
　　
　　PL-SR系列噴墨步進(jìn)式納米壓印設(shè)備攻克了步進(jìn)硬板的非真空完全貼合、噴膠與薄膠壓印、壓印膠殘余層控制等關(guān)鍵技術(shù)難題，可對應(yīng)線寬＜10nm 的納米壓印光刻工藝。該設(shè)備配備自主研發(fā)的模板面型控制系統(tǒng)、納米壓印光刻膠噴墨算法系統(tǒng)、噴墨打印材料匹配，并搭配了自主開發(fā)的軟件控制系統(tǒng)。該款設(shè)備目前已經(jīng)初步完成儲存芯片、硅基微顯、硅光及先進(jìn)封裝等芯片研發(fā)驗(yàn)證。
 
　　
　　PL-SR系列成功攻克噴墨涂膠工藝多項(xiàng)技術(shù)瓶頸，在噴涂型納米壓印光刻材料方面實(shí)現(xiàn)重大突破。在半導(dǎo)體級芯片壓印工藝中，芯片結(jié)構(gòu)通常為變占空比、多周期變化的納米結(jié)構(gòu)。這種復(fù)雜的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需對局部膠量精準(zhǔn)控制，根據(jù)結(jié)構(gòu)變化動態(tài)調(diào)節(jié)壓印膠的噴涂量，從而獲得薄而一致的殘余層厚度。PL-SR系列通過創(chuàng)新材料配方與工藝調(diào)控，提高膠滴密度與鋪展度，成功實(shí)現(xiàn)了納米級的壓印膜厚，平均殘余層＜10nm，殘余層變化＜2nm，壓印結(jié)構(gòu)深寬比>7:1的技術(shù)指標(biāo)。發(fā)展了匹配噴膠步進(jìn)壓印工藝與后續(xù)半導(dǎo)體加工工藝的多款納米壓印膠體系，特別是開發(fā)了可溶劑清洗的光固化納米壓印膠，解決了昂貴石英模板可能被殘留壓印膠污染的潛在風(fēng)險(xiǎn)，為高精度步進(jìn)納米壓印提供了可靠材料保障。
 
　　
　　此外，PL-SR系列還突破了納米壓印模板面型控制的技術(shù)難點(diǎn)。在高端芯片極小線寬壓印過工藝中，壓印模板采用的是硬質(zhì)的石英模板，因?yàn)槭⑴c硅晶圓先天性具有一定的翹曲率，從而在整個(gè)納米壓印過程中要求對模板進(jìn)行面型控制才能達(dá)到完美的貼合狀態(tài)。與此同時(shí)，高端芯片極小結(jié)構(gòu)壓印所需納米壓印膠量極少，大約十納米級的厚度，這更增加了模板和襯底貼合的難度。我司自主研發(fā)的納米壓印模板面型控制技術(shù)解決了上述的技術(shù)難點(diǎn)。
　　
　　納米壓印模板貼合與脫模過程
　　
　　與光刻工藝流程一樣，在納米壓印工藝完成后下一道工序是刻蝕工藝，從而對壓印的均勻性，穩(wěn)定性要求極高。尤其對壓印殘余層的控制要求極高。我司針對這一技術(shù)難點(diǎn)，對壓印設(shè)備，材料，工藝系統(tǒng)的進(jìn)行優(yōu)化，可實(shí)現(xiàn)無殘余層壓印工藝。
　　
　　在高端半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，業(yè)界要求對準(zhǔn)精度需突破10nm以下，甚至向1nm級逼近。這一技術(shù)指標(biāo)的實(shí)現(xiàn)，其難度與成本已與國際主流極紫外光刻（EUV）設(shè)備處于同一量級。我司認(rèn)為，要突破納米級對準(zhǔn)這一"卡脖子"技術(shù)，必須整合產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢資源。璞璘科技秉持開放創(chuàng)新的合作理念，特別期待與國內(nèi)在精密對準(zhǔn)領(lǐng)域具有技術(shù)積累的科研院所和企業(yè)開展深度合作。通過聯(lián)合攻關(guān)，共同打造具有國際競爭力的高端步進(jìn)納米壓印設(shè)備，助力我國在下一代芯片制造裝備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)自主可控。
　　
　　NEWS                  拼版應(yīng)用PL-SR是一種通用的重復(fù)步進(jìn)納米壓印光刻系統(tǒng)，其具有高效、高精度的壓印功能，此外還具備拼接復(fù)雜結(jié)構(gòu)的性能。PL-SR采用高精度的噴墨打印式涂膠方案，與此同時(shí)還可以輔助高精度的對準(zhǔn)功能，可實(shí)現(xiàn)高精度拼接對準(zhǔn)精度要求的納米壓印工藝。此外，PL-SR重復(fù)步進(jìn)壓印系統(tǒng)還可滿足模板拼接的需求，最小可實(shí)現(xiàn)20mmx20mm的壓印模板均勻的拼接，最終可實(shí)現(xiàn)300mm(12in)晶圓級超大面積的模板。
　　
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